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ZKE蓝光级有机硅胶小型实验室研磨分散机

型号:KZSD2000

浏览量:258

更新时间:2020-06-18

简要描述:

对于制备蓝光级别的有机硅胶,太仓中新宝智能装备有限公司推出了ZKE蓝光级有机硅胶小型实验室研磨分散机,KZ系列创新研磨分散设备是ZKE(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三组高剪切均质乳化机进行改装,我们将三组变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。

产品名称:ZKE蓝光级有机硅胶研磨分散机,蓝光级有机硅高速分散机,ZKE蓝光级有机硅胶小型实验室研磨分散机

有机硅的形态分类:

有机硅可分为:(有机硅化学试剂)、硅油(硅脂、硅乳液、硅表面活性剂)、高温硫化硅橡胶液体硅橡胶硅树脂、复合物等。

(热硫化)硅橡胶和室温硫化(包括低温硫化)硅橡胶两大类。

由于与有机材料的性能,具有表面张力低、粘温系数小、压缩性高、气体渗透性高等基本性质,并具有耐高低温、电气绝缘、耐氧化稳定性、耐候性、难燃、憎水、耐腐蚀、无毒无味以及惰性等优异特性,广泛应用于、电子电气、建筑、运输、化工、纺织、食品、轻工、医疗等行业,其中有机硅主要应用于密封、粘合、润滑、涂层、表面活性、脱模、消泡、抑泡、防水、防潮、惰性填充等。随着有机硅数量和品种的持续增长,应用领域不断拓宽,形成化工新材料界独树一帜的重要产品体系,许多品种是其他化学品无法替代而又必不可少的。

有机硅的性能:

有机硅胶产品的基本结构单元是由硅-氧链节构成的,侧链则通过硅原子与其他各种有机基团相连。因此,在有机硅产品的结构中既含有"有机基团",又含有"无机结构",这种特殊的组成和分子结构使它集有机物的特性与无机物的功能于一身。与其他高分子材料相比,有机硅产品的性能是:

1.耐温特性

有机硅产品是以硅-氧(Si-O)键为主链结构的,C-C键的键能为82.6千卡/克分子,Si-O键的键能在有机硅中为121千卡/克分子,所以有机硅产品的热稳定性高,高温下(或辐射照射)分子的化学键不断裂、不分解。有机硅不但可耐高温,而且也耐低温,可在一个很宽的温度范围内使用。无论是化学性能还是物理机械性能,随温度的变化都很小。

2.耐候性

有机硅产品的主链为-Si-O-,无双键存在,因此不易被紫外光和臭氧所分解。有机硅具有比其他高分子材料更好的热稳定性以及耐辐照和耐候能力。有机硅中自然环境下的使用寿命可达几十年。

3.电气绝缘性能

有机硅产品都具有良好的电绝缘性能,其介电损耗、耐电压、耐电弧、耐电晕体积电阻系数和表面电阻系数等均在绝缘材料中名列前茅,而且它们的电气性能受温度和频率的影响很小。因此,它们是一种稳定的电绝缘材料,被广泛应用于电子、电气工业上。有机硅除了具有优良的耐热性外,还具有优异的拒水性,这是电气设备在湿态条件下使用具有高可靠性的保障。

4.惰性

聚硅氧烷类化合物是已知的最无活性的化合物中的一种。它们十分耐生物老化,与动物体无排异反应,并具有较好的抗凝血性能。

5.低表面张力和低表面能

有机硅的主链十分柔顺,其分子间的作用力比碳氢化合物要弱得多,因此,比同分子量的碳氢化合物粘度低,表面张力弱,表面能小,成膜能力强。这种低表面张力和低表面能是它获得多方面应用的主要原因:疏水、消泡、泡沫稳定、防粘、润滑、上光等各项优异性能。

对于制备蓝光级别的有机硅胶,太仓中新宝智能装备有限公司推出了KZ系列研磨分散机,KZ系列创新研磨分散设备是ZKE(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三组高剪切均质乳化机进行改装,我们将三组变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
GMD2000系列创新胶体磨,研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

   级由具有精细度递升的三组锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

GMD2000系列创新胶体磨,研磨分散机的特点:

①线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

②定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三组锯齿突起和凹槽。

③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

设备型号表

型号

标准流量L/H

输出转速Rpm

标准线速度m/s

马达功率KW

进口尺寸

出口尺寸

KZSD2000/4

300-1,000

18,000

51

4

DN25

DN15

KZSD2000/5

1,000-1,500

13,500

51

11

DN40

DN32

KZSD2000/10

3,000

9,300

51

22

DN50

DN50

KZSD2000/20

8,000

3,600

51

37

DN80

DN65

KZSD2000/30

20,000

3,600

51

75

DN150

DN125

KZSD2000/50

40,000

2,500

51

160

DN200

DN150

 

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